研究人员发现了大规模生产紫外全息图的最佳条件

研究人员深入研究了用于紫外超表面制造的纳米复合材料的成分，并确定了制造它们的理想印刷材料。他们的研究结果发表在 4 月 22 日的《微系统与纳米工程》杂志上。

超表面(超薄光学器件)具有将光控制到纳米厚度的卓越能力。超表面作为推动下一代显示、成像和生物传感的关键技术一直是研究的主题。它们的影响范围超出了可见光，深入到红外线和紫外线领域。

纳米压印光刻是一种超表面生产技术，类似于从单个模具生成大量复制品的印章。这种创新技术有望以经济实惠的方式大规模制造超表面，为其商业可行性铺平道路。然而，用作印刷材料的树脂有一个缺点——折射率低，阻碍了有效的光操纵。

为了应对这一挑战，研究人员正在积极探索纳米复合材料，将纳米颗粒整合到树脂中以提高其折射率。然而，这种方法的功效取决于多种因素，例如纳米颗粒类型和溶剂选择，因此需要系统分析以获得最佳超表面性能。

在他们的研究中，该团队精心设计了实验来评估纳米颗粒浓度和溶剂选择对图案转移和紫外元全息图的影响。

具体来说，他们控制了二氧化锆 (ZrO 2)的浓度，二氧化锆 (ZrO 2 ) 是一种纳米复合材料，以其在 UV 超全息图生产中的有效性而闻名，范围从 20% 到 90%。结果表明，在 80% 的浓度水平下获得了最高的图案转移效率。

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